पॉलीक्रिस्टलाइन सीवीडी हीरा

पॉलीक्रिस्टलीय सीवीडी हीरा

रासायनिक वाष्प अवशोषण (संक्षिप्त रूप से सीवीडी) गैस या वाष्प का उपयोग हैगैस चरण या गैस-ठोस अवशेष जमा उत्पन्न करने के लिए गैस-ठोस इंटरफ़ेस प्रतिक्रिया में पदार्थनिम्न दबाव की स्थितियों में कार्बन को सक्रिय करने के लिए एक निश्चित विधि का उपयोग किया जाता हैगैस युक्त, ताकि इसमें कार्बन परमाणु सब्सट्रेट पर अतिसंतृप्त हो (बीज)कार्बन स्रोत गैस की सक्रियता औरकार्बन परमाणुओं की जमाव रासायनिक प्रतिक्रियाओं की एक श्रृंखला के साथ होता है, तो यहहीरे को संश्लेषित करने की विधि को रासायनिक वाष्प जमाव कहा जाता है।

उत्पाद की विशेषताएं:

1कोई धातु या गैर धातु योजक नहीं

2उच्च कठोरता, उच्च पहनने के प्रतिरोध, आसान प्रसंस्करण

3उच्च ताप चालकता, विद्युत चुम्बकीय तरंगों का पूर्ण बैंड संचरण

4अम्ल और क्षार क्षरण के खिलाफ रासायनिक स्थिरता

5अनुकूलित सेवा

6मानक उत्पाद विनिर्देशों में Φ50.8*0.3 मिमी, Φ50.8*0.4 मिमी, Φ25.4*0.3 मिमी, Φ25.4*0.4 मिमी, आदि शामिल हैं और इसे अनुकूलित भी किया जा सकता है।

उत्पाद गुण